大连化物所等使用深紫外激光PEEMLEEM表征晶圆六方氮化硼结构

  近来，中国科学院大连化学物理研讨所催化根底国家重点试验室研讨员傅强团队与台积电（TSMC）Lain-Jong Li团队、台湾交通大学Wen-Hao Chang团队、美国莱斯大学B. I. Yakobson团队、北京大学教授张艳峰团队协作，在2英寸晶圆衬底上成功外延成长单晶六方氮化硼（hBN）单层薄膜。

  六方氮化硼是一类重要的二维半导体层状资料，如安在晶圆上完成单晶六方氮化硼薄膜的可控成长是六方氮化硼未来应用于集成电路中的要害应战。研讨人员在蓝宝石基底上成长外表取向为（111）的无晶界单晶铜薄膜，以此作为衬底进一步制备彻底有序的六方氮化硼晶圆片。对大面积单层薄膜结构单晶性质的表征和确认是两维资料研讨中一个公认难题。研讨人员借助于试验室自行研发的深紫外激光PEEM/LEEM配备，使用其特有的外表微区成像和衍射功用，在1英寸晶圆外表上选取近百个微米尺度的微区进行结构剖析，试验效果证明，六方氮化硼薄膜与Cu(111)衬底外表取向彻底一致，确认了该单层薄膜的单晶特性。

  大连化物所等使用深紫外激光PEEM/LEEM表征晶圆六方氮化硼结构研讨获发展

  相关效果宣布在《天然》（Nature）上。该作业得到国家天然科学基金科学中心项目、中科院战略性先导科技专项B类“动力化学转化的实质与调控”、国家严重科研配备研发项目等赞助。